[发明专利]一种针对探测器像元响应率的非均匀校正装置及方法无效
| 申请号： | 201210236598.5 | 申请日： | 2012-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN102768107A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 黄立;安凯 | 申请（专利权）人： | 武汉高德红外股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J5/00 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 唐正玉 |
| 地址： | 430223 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置及方法，装置为在光电设备的内部安装上述的摆镜、摆镜电机、两个辐射源、两个反射镜，且两个辐射源上下对称地安装在前透镜组、后透镜组之间，每个辐射源旁边安装一个反射镜，在后透镜组与成像透镜组之间安装摆镜，摆镜由摆镜电机控制，并且摆镜通过摆动依次能转向两个辐射源，确保两个辐射源发出的辐射能量依次被探测器接收。方法为：探测器接收到两个辐射源的辐射能量，通过两点校正算法，得到校正模板，从而实现对探测器像元响应率非均匀性的校正。本发明不需要进行大量的校正模板采集工作，也不需要大量的模板存储空间，就可以实现对探测器非均匀性的实时校正。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 针对 探测器 响应 均匀 校正 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置，包括摆镜、摆镜电机、两个辐射源、两个反射镜，光电设备探测器成像光路为：光线通过前透镜组、后透镜组之后，再经成像透镜组在探测器焦平面成像，其特征在于：在光电设备的内部安装上述的摆镜、摆镜电机、两个辐射源、两个反射镜，且两个辐射源上下对称地安装在前透镜组、后透镜组之间，每个辐射源旁边安装一个反射镜，在后透镜组与成像透镜组之间安装摆镜，摆镜由摆镜电机控制，并且摆镜通过摆动依次能转向两个辐射源，确保两个辐射源发出的辐射能量依次被探测器接收。
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