[发明专利]一种针对探测器像元响应率的非均匀校正装置及方法

权利要求书

1.一种针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置，包括摆镜、摆镜电机、两个辐射源、两个反射镜，光电设备探测器成像光路为：光线通过前透镜组、后透镜组之后，再经成像透镜组在探测器焦平面成像，其特征在于：在光电设备的内部安装上述的摆镜、摆镜电机、两个辐射源、两个反射镜，且两个辐射源上下对称地安装在前透镜组、后透镜组之间，每个辐射源旁边安装一个反射镜，在后透镜组与成像透镜组之间安装摆镜，摆镜由摆镜电机控制，并且摆镜通过摆动依次能转向两个辐射源，确保两个辐射源发出的辐射能量依次被探测器接收。

2.根据权利要求1所述的针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置，其特征在于：所述的辐射源为温差红外辐射源或黑白可见光辐射源。

3.根据权利要求1所述的针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置，其特征在于：所述的摆镜为红外波段反射镜或可见光反射镜。

4.根据权利要求1所述的针对探测器像元响应率的非均匀性校正装置，其特征在于：所述的摆镜电机的工作方式为连续扫描式、往返扫描式或多点定位式的摆动方式。

5.一种针对探测器像元响应率的非均匀性校正方法，其特征在于按以下步骤进行：

（1）、需要对探测器进行非均匀性校正时，给摆镜电机发送动作指令或设定程序定时发送，摆镜电机带动摆镜依次转向两个辐射源，转动角度通过事先的计算确定，确保两个辐射源发出的辐射能量依次被探测器接收到；（2）通过两点校正算法，得到校正模板，从而实现对探测器像元响应率非均匀性的校正。该校正方法可以对探测器的每次积分进行非均匀校正，校正模板可以做为动态数据临时存储，待下一次校正后，被新模板覆盖。