[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除镍工艺有效
申请号: | 201210235287.7 | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN102730745A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 庄永;薛克艳;邹鸿图;金梁云;姚明辉 | 申请(专利权)人: | 昆山市千灯三废净化有限公司 |
主分类号: | C01G3/10 | 分类号: | C01G3/10;C23F1/46 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215341 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种高纯电镀级硫酸铜除镍工艺,是以含铜蚀刻废液为原料,经过净化除杂工艺除去镍杂质,使最终生成的电镀级硫酸铜中的镍离子含量不大于10ppm。其特征在于包括以下步骤:(1)含铜蚀刻废液的过滤去除机械杂质;(2)净化除铅砷;(3)调pH除铁;(4)除钙镁;(5)酸碱中和生成铜盐沉淀;(6)铜盐沉淀洗涤纯化;(7)浓硫酸酸化;(8)冷却结晶。本发明工艺具有生产成本低,工艺简单,生产出的硫酸铜纯度高,镍含量低等优点。 | ||
搜索关键词: | 高纯 电镀 硫酸铜 工艺 | ||
【主权项】:
高纯电镀级硫酸铜除镍工艺,其特征在于该工艺包括以下步骤:(1)将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤,除去机械杂质;(2)分别对酸性和碱性蚀刻废液进行除铅砷工艺;(3)搅拌下,用碱性溶液调节酸性蚀刻废液的pH;(4)对酸性蚀刻废液进行除钙、镁工艺; (5)对碱性蚀刻废液进行除钙、镁工艺;(6)将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降,过滤;(7)中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液生成中间体,除镍;(8)搅拌陈化,过滤;(9)洗涤;(10)酸化;(11)冷却结晶。
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