[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除镍工艺

权利要求书

1.高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于该工艺包括以下步骤：

（1）将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤，除去机械杂质；

（2）分别对酸性和碱性蚀刻废液进行除铅砷工艺；

（3）搅拌下，用碱性溶液调节酸性蚀刻废液的pH；

（4）对酸性蚀刻废液进行除钙、镁工艺； 

（5）对碱性蚀刻废液进行除钙、镁工艺；

（6）将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降，过滤；

（7）中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液生成中间体，除镍；

（8）搅拌陈化，过滤；

（9）洗涤；

（10）酸化；

（11）冷却结晶。

2.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（2）中采用氯化镁除砷，用硫酸钠和氯化钡除铅。

3.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（3）中碱性溶液为Na₂CO₃或 NaOH 溶液，调节酸性蚀刻废液的pH为2.0～3.0。

4.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（6）中加入聚铁起到絮凝助滤的作用；过滤采用板框压滤，滤布滤布的规格为600～1000目。

5.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（7）中酸性和碱性蚀刻废液的中和需要缓冲溶液，预先在反应釜中加入NH₄Cl溶液或母液做缓冲溶液。

6.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（7）中酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的中和采用并流加料的方式，反应温度控制60～75℃，过程pH值控制在3.5～4.3。

7.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（8）中搅拌陈化时间为10分钟～1小时；过滤采用板框过滤，滤液收集做缓冲溶液用。

8.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（9）中洗涤采用打浆洗涤的方式，洗涤水采用纯水；洗涤次数不少于2次。

9.根据权利要求1所述的高纯电镀级硫酸铜除镍工艺，其特征在于：所述步骤（10）中采用浓硫酸酸化。