[发明专利]光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法无效
| 申请号： | 201210228108.7 | 申请日： | 2012-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN102866130A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 松田京子;奥村敏之 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/55;G01N21/59;G01N21/27 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张远 |
| 地址： | 日本国大阪府大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法。提供一种能效率良好地对分析对象物的大致整个面照射光并使分析的精度得以提高的光测量分析装置。本实施方式的光测量分析装置包括容器、光源、光照射部、光接收部、分光部、以及对由分光部得到的光的频谱进行分析的分析部。容器的内壁构成为对从分析对象物反射的光和透射后的光进行反射。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 分析 装置 储藏库 电磁波 发生 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光测量分析装置，具备：能收纳分析对象物的容器；光源；光照射部，其构成为将所述光源的光导入所述容器内；光接收部，其构成为对透射过所述分析对象物的透射光或者反射后的反射光进行接收；分光部，其构成为对由所述光接收部接收的光进行分光；和分析部，其构成为对通过所述分光部得到的光的频谱进行分析，所述容器的内壁构成为对所述透射光或者所述反射光进行反射。
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