[发明专利]光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法

权利要求书

1.一种光测量分析装置，具备：

能收纳分析对象物的容器；

光源；

光照射部，其构成为将所述光源的光导入所述容器内；

光接收部，其构成为对透射过所述分析对象物的透射光或者反射后的反射光进行接收；

分光部，其构成为对由所述光接收部接收的光进行分光；和

分析部，其构成为对通过所述分光部得到的光的频谱进行分析，

所述容器的内壁构成为对所述透射光或者所述反射光进行反射。

2.根据权利要求1所述的光测量分析装置，其中，

所述光测量分析装置包括用于放载所述分析对象物的测量台，

所述测量台构成为面积比所述分析对象物小。

3.根据权利要求2所述的光测量分析装置，其中，

所述测量台包括用于检测所述分析对象物的重量的传感器。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

所述光源以及所述光接收部设置于所述容器的相同的侧面。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

所述光源以及所述光接收部设置于所述容器的非对置的不同的侧面。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

还具备：输入部，其构成为受理信息的输入。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

还具备：输出部，其构成为对由所述分析部分析得到的结果进行输出。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

所述分析部构成为存储校正数据，该校正数据用于校正与测量所述光的频谱的环境变化相应的所述光的频谱的变化。

9.根据权利要求1～3中任一项所述的光测量分析装置，其中，

所述光测量分析装置作为冷冻冷藏库的自动制冰器的供水箱发挥功能。

10.根据权利要求9所述的光测量分析装置，其中，

所述供水箱包含去除杂质的功能。

11.一种储藏库，具有冷却功能，

所述储藏库包括权利要求1所述的光测量分析装置。

12.根据权利要求11所述的储藏库，其中，

所述储藏库是具有自动制冰器的冷冻冷藏库，

所述光测量分析装置设置于自动制冰器中。

13.一种电磁波发生装置，供应电磁波，

所述电磁波发生装置包括权利要求1所述的光测量分析装置。

14.一种使用光测量分析装置的光测量分析方法，包括：

收纳分析对象物的步骤；

将光源的光导入到收纳所述分析对象物的容器内的导入步骤；

对透射过所述分析对象物的透射光或者反射后的反射光进行接收的接收步骤；

对在所述接收步骤中接收到的光进行分光的分光步骤；

对在所述分光步骤中得到的光的频谱进行分析的分析步骤；

通过所述容器的内壁来对所述透射光或者所述反射光进行反射的步骤；

为了测量所述分析对象物，将在所述导入步骤中所导入的光照射到所述分析对象物的步骤；和

根据所述接收步骤中接收到的光取得光的频谱的步骤。

15.根据权利要求14所述的光测量分析方法，其中，

还包括检测所述分析对象物的重量的步骤。

16.根据权利要求14或15所述的光测量分析方法，其中，

还包括受理信息的输入的步骤。

17.根据权利要求14或15所述的光测量分析方法，其中，

还包括对通过所述分析步骤分析得到的结果进行输出的步骤。

18.根据权利要求14或15所述的光测量分析方法，其中，

所述分析步骤还包括存储校正数据的步骤，该校正数据用于校正与测量所述光的频谱的环境变化相应的所述光的频谱的变化。

19.根据权利要求14或15所述的光测量分析方法，其中，

还包括去除杂质的步骤。