[发明专利]研磨头及研磨装置有效
| 申请号： | 201210226406.2 | 申请日： | 2012-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN103522167A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨头，包括晶圆吸附空间和限位环，所述限位环环绕设于所述晶圆吸附空间的外侧，所述限位环的底部还设有研磨调节机构。本发明还提供了一种研磨装置，包括研磨垫和研磨头，所述研磨头放置于所述研磨垫上，所述研磨头采用本发明提供的研磨头。本发明通过环状结构的设计将传统研磨头和调节器巧妙地结合在一起，将两者的功能汇集到一个装置中，既达到了固定晶圆的目的，也同时完成了对研磨液与研磨颗粒的调节，进而提高了研磨的工艺的质量和效率，极大地节省了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨头，其特征在于：包括晶圆吸附空间和限位环，所述限位环环绕设于所述晶圆吸附空间的外侧，所述限位环的底部还设有研磨调节机构。
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