[发明专利]研磨头及研磨装置有效
| 申请号： | 201210226406.2 | 申请日： | 2012-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN103522167A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨头，其特征在于：包括晶圆吸附空间和限位环，所述限位环环绕设于所述晶圆吸附空间的外侧，所述限位环的底部还设有研磨调节机构。
2.如权利要求1所述的研磨头，其特征在于：所述研磨调节机构包括若干设置于所述限位环底部的外凸的研磨晶体。
3.如权利要求2所述的研磨头，其特征在于：所述限位环的底部内缘设有凸环。
4.如权利要求3所述的研磨头，其特征在于：所述限位环的底部设有环形槽，所述环形槽绕设于所述凸环的外侧且位于所述研磨晶体的内侧。
5.如权利要求4所述的研磨头，其特征在于：所述凸环上设有若干个通孔，所述通孔连通所述环形槽与晶圆吸附空间。
6.如权利要求5所述的研磨头，其特征在于：若干个所述通孔在所述凸环上均匀分布。
7.如权利要求1所述的研磨头，其特征在于：所述限位环的底部外缘设有斜坡。
8.如权利要求7所述的研磨头，其特征在于：所述限位环的底部设有若干个导流槽，所述导流槽呈直线形，所述导流槽连接所述环形槽与所述斜坡。
9.如权利要求8所述的研磨头，其特征在于：若干个所述导流槽环绕着所述凸环均匀分布。
10.如权利要求9所述的研磨头，其特征在于：所述导流槽与所述凸环的半径方向形成固定的夹角。
11.如权利要求10所述的研磨头，其特征在于：所述夹角的范围为0到90度。
12.一种研磨装置，包括研磨垫和研磨头，所述研磨头放置于所述研磨垫上，其特征在于，所述研磨头采用如权利要求1～10中任意一项所述的研磨头。
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