[发明专利]一种具有大击穿电压的半导体整流器件的制备方法无效
申请号: | 201210200420.5 | 申请日: | 2012-06-18 |
公开(公告)号: | CN102810462A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 杨峰;柯川;杨勇 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 成都信博专利代理有限责任公司 51200 | 代理人: | 张澎 |
地址: | 610031 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有大击穿电压的半导体整流器件的制备方法,利用窄带半导体对TiO2纳米管阵列进行修饰:通过阳极氧化法制得二氧化钛纳米管阵列模板,所得阵列模板经450℃退火3.5小时;再将其依次浸渍于硝酸铅溶液、去离子水、硫化钠溶液和去离子水中,所述溶液中铅和硫摩尔比Pb:S=1:1;循环5-8次,最后经超声处理,得到硫化铅修饰的二氧化钛纳米管阵列光阳极。本发明的二氧化钛纳米管阵列光阳极材料制备方法,生产工艺简单,制备的二氧化钛纳米管阵列光阳极材料电流密度和光电转换效率较高,可以直接应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 击穿 电压 半导体 整流 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有大击穿电压的半导体整流器件的制备方法,利用窄带半导体对TiO2纳米管阵列进行修饰,包括以下步骤:A)阳极氧化法制备TiO2纳米管阵列将铂片作为阴极、钛片作为阳极,将钛片浸入在0.25%wt氟化铵的乙二醇溶液中进行阳极氧化,电压为55v,氧化时间13小时,即在钛片表面生长出TiO2纳米管阵列;B)水热合成CuS/TiO2纳米管阵列复合材料将A步骤生长有TiO2纳米管阵列的钛片放入装有氯化铜和硫代硫酸钠的混合溶液中,混合溶液的氯化铜和硫代硫酸钠的摩尔浓度相同;用高压釜封好后,放入炉中加温,时间为17小时,温度为100℃。C)制作条形铝电极在CuS/TiO2纳米管阵列复合材料表面蒸镀铝电极,铝电极垂直于钛片的长边,蒸镀时真空度为5‑10‑4pa,铝电极的厚度为100nm,铝电极之间间隔2mm;以铝电极为正极,裸露的钛基底为负极,构成具有大击穿电压的半导体整流器件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南交通大学,未经西南交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210200420.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造