[发明专利]一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液无效
| 申请号： | 201210194058.5 | 申请日： | 2012-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN102691063A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 赵健伟;贺园园 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 贺翔 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液，它由下列物质制成：氯化钾、亚硝酸钾、磷酸钾、配位剂、添加剂和水。该无机盐蚀刻液各组分浓度精确，通过电化学蚀刻法可将印制电路板铜箔的精度控制在10μm以下，蚀刻精度高，蚀刻速度稳定、蚀刻均匀、蚀刻液易再生、污染少，且配制方法简单，生产成本低，适用范围广泛，具有很好的经济效益和社会效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 电化学 蚀刻 精细 线路 无机盐 | ||
【主权项】：
一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液，其特征在于：它由下列物质制成：氯化钾、亚硝酸钾、磷酸钾、配位剂、添加剂和水。
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