[发明专利]一种碳微电极阵列结构的制备方法

摘要

本发明属于碳微机电技术领域，为一种碳微电极阵列结构的制备方法。其步骤包括①光刻步骤，得到阵列的碳微结构部分；②沉积金属步骤：在所得到的碳微结构表面沉积一层或多层金属层；③热解步骤：在惰性气体氛围或惰性混合气体氛围环境下，在不同的温度下进行多步热解；通过上述步骤，即可生长得到表面集成碳纳米结构的碳微电极阵列结构。本发明将厚胶光刻、金属沉积和热解相结合，得到的微纳集成结构拥有较大的比表面积，本发明的方法运用于微机电系统中，具有工艺简便，成本低廉、可控性高、可大批量生长、结构优良等特点，得到的微纳集成结构具有良好的电学性能，故可作为电机，在微型电池、微型电化学传感器等微机领域中会有较广泛的应用。

主权项

一种碳微电极阵列结构的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：(1) 光刻步骤：在基片上使用负胶进行光刻，得到光刻胶的阵列结构； (2) 沉积金属步骤：在所得到的光刻胶的阵列结构上沉积至少一层金属层；所述各金属层为单金属或合金；(3) 热解步骤：在保护气体环境下进行热解，得到表面集成了金属纳米褶皱结构的碳微结构。