[发明专利]坩埚装置、坩埚装置控制方法、膜厚测量装置及包含它的薄膜沉积设备

摘要

本发明提供一种在薄膜沉积时根据坩埚内的有机物质剩余量而适当地调整加热位置地构成的坩埚装置及其控制方法、能够更加准确地测量沉积到基板上的薄膜厚度的膜厚测量装置、及包含该坩埚装置及/或膜厚测量装置的薄膜沉积设备。

主权项

一种坩埚装置，包括：坩埚，内部装载有机物质；加热单元，能够沿着上下方向移动地配置在上述坩埚上并且一边移动一边供热让有机物质蒸发；驱动单元，驱使上述加热单元移动。