[发明专利]坩埚装置、坩埚装置控制方法、膜厚测量装置及包含它的薄膜沉积设备

权利要求书

1.一种坩埚装置，包括：

坩埚，内部装载有机物质；

加热单元，能够沿着上下方向移动地配置在上述坩埚上并且一边移动一边供热让有机物质蒸发；

驱动单元，驱使上述加热单元移动。

2.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括控制单元，其控制上述驱动单元以便让上述加热单元根据上述坩埚所装载有机物质的高度而移动。

3.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，

上述控制单元包括：

检测传感器，检测上述坩埚所装载有机物质的高度；

控制部，根据来自上述检测传感器的检测信号而控制上述驱动单元的运转。

4.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，

上述控制单元包括：

检测传感器，检测从上述坩埚蒸发的有机物质的单位时间蒸发量；

控制部，根据来自上述检测传感器的检测信号而控制上述驱动单元的运转。

5.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

上述加热单元在插入上述坩埚外周的状态下进行上下移动。

6.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括为上述坩埚供应有机物质的供应单元。

7.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括冷却上述坩埚所装载有机物质的冷却单元。

8.根据权利要求7所述的坩埚装置，其特征在于，

上述冷却单元能够与上述加热单元一起移动地配置在上述加热单元的下部。

9.一种坩埚装置，包括：

坩埚，内部装载有机物质；

多个加热单元，在上述坩埚上沿着上下方向互相隔离地配置并且供热让有机物质蒸发；

控制单元，根据上述坩埚所装载有机物质的高度而选择性地打开或关闭上述加热单元。

10.根据权利要求9所述的坩埚装置，其特征在于，

上述加热单元具有各自围绕上述坩埚的外周的结构。

11.根据权利要求9或10所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括隔热构件，其配置在上述加热单元之间并且防止上述相邻加热单元之间的热干涉。

12.根据权利要求9所述的坩埚装置，其特征在于，

上述加热单元的加热温度由上述控制单元各自调节。

13.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

上述坩埚具有凹凸结构以增加与内部所装载有机物质之间的接触面积。

14.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括为上述坩埚供应有机物质的供应单元。

15.根据权利要求14所述的坩埚装置，其特征在于，

上述控制单元控制上述供应单元以便从上述供应单元为上述坩埚供应有机物质。

16.根据权利要求9所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括冷却上述坩埚所装载有机物质的冷却单元。

17.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

上述加热单元由上下方向配置的多个单位加热单元构成，上述单位加热单元能够各自调节加热温度。

18.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

上述加热单元在插入上述坩埚外周的状态下进行上下移动，

在上述加热单元上沿着上下方向配置的加热源中至少一部分距上述坩埚外周的间隔距离不同。

19.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，

还包括供热而使得从上述坩埚蒸发的有机物质维持气体状态的辅助加热单元。

20.一种坩埚装置控制方法，包括下列步骤：

检测上述坩埚所装载有机物质的高度后驱使能够沿着上下方向移动地配置在坩埚上的加热单元移动；

随着上述坩埚所装载有机物质蒸发导致有机物质高度降低而驱使上述移动后的加热单元下降。