[发明专利]一种基于柔性基底复制纳米压印模板的方法无效
| 申请号： | 201210177851.4 | 申请日： | 2012-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN102707567A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 褚金奎;王海祥;张然;陈兆鹏 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 关慧贞 |
| 地址： | 116024*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明一种基于柔性基底复制纳米压印模板的方法，属于纳米压印技术领域中的纳米压印模板。该方法包括以下步骤：利用原始模板对柔性基底IPS进行压印，复制纳米图形；在柔性基底IPS上有纳米图形的一面溅射一层金属层；将溅射有金属层的IPS放入电铸槽进行微电铸，微电铸沉积电铸结束揭掉IPS，完成纳米压印模板的复制。该方法避免了直接利用微电铸不能沉积纳米结构的缺陷，采用该方法可以完成多种材料和尺寸的原始模板的复制，复制得到的模板图形分辨率高，工艺步骤简单，容易操作，成本低，制作周期短，可以完成大面积纳米压印模板的复制，适合批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 柔性 基底 复制 纳米 压印 模板 方法 | ||
【主权项】：
一种基于柔性基底复制纳米压印模板的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：1）利用原始模板（2）对柔性基底IPS（1）进行压印，复制纳米图形；2）在柔性基底IPS（1）上有纳米图形的一面溅射一层金属层；溅射的金属层（3）覆盖了IPS（1）上的整个纳米图形区域，并且填充满了纳米图形的所有凹型结构；溅射的金属是镍、铜或金；3）将溅射有金属层的IPS（1）放入电铸槽进行微电铸；微电铸沉积金属层（4）中的金属是镍、铜或金；4）电铸沉积结束后揭掉IPS（1），完成纳米压印模板的复制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学，未经大连理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210177851.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
