[发明专利]含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210176672.9 申请日: 2012-06-01
公开(公告)号: CN102675325A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 黄剑东;张洪鹏;冬梅 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22;A61K41/00;A61K31/409;A61P35/00;A61P31/10;A61P31/04
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物及其制备方法,属于光动力药物或光敏剂制备领域。本发明所述化合物具有以下有利于在生物医药领域应用的特点:两亲性,吸收光谱红移至更加有利于穿透人体组织的波长处,光敏产生活性氧的能力高。本发明的制备方法简单,具备显著的经济和社会效益。
搜索关键词: 含哌嗪乙氧基 修饰 基团 金属 配合 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种非周边四取代的酞菁金属配合物,其特征在于:其结构式如下:,上式中,M代表金属离子,R代表取代基团,四个取代基团均处于酞菁环的非周边位置,称a位,即1(4),8(11),15(18),22(25)位置,其中M为Zn2+、Co2+、Ni2+、Fe2+或Cu2+,取代基团R为:
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