[发明专利]发光二极管阵列及其形成方法无效

专利信息
申请号: 201210174881.X 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN103178074A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 陈嘉南;卢怡安 申请(专利权)人: 华夏光股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/10;H01L21/8252
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 大开曼岛*** 国省代码: 开曼群岛;KY
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摘要: 发明有关于一种发光二极管阵列及其形成方法。该阵列包含一具有一第一电极的第一发光二极管,以及一具有一第二电极的第二发光二极管。一第一介电层位于第一与第二发光二极管之间。第一介电层的一第一部分至少部分地覆盖第一发光二极管,第一介电层的一第二部分至少部分地覆盖第二发光二极管。一互连线至少部分地位于第一介电层上。该互连线将第一电极连接至第二电极。一反射层至少形成于第一介电层的第一及第二部分之上。一永久基板耦接至发光二极管面对反射层的一侧。
搜索关键词: 发光二极管 阵列 及其 形成 方法
【主权项】:
一种发光二极管阵列,其特征在于,包括:一第一发光二极管,包括一第一电极;一第二发光二极管,包括一第二电极,其中该第一发光二极管与该第二发光二极管分离;一第一介电层,位于该第一发光二极管与该第二发光二极管之间,其中该第一介电层的一第一部分至少部分地覆盖该第一发光二极管,该第一介电层的一第二部分至少部分地覆盖该第二发光二极管;一互连线,至少部分地位于该第一介电层之上,该互连线将该第一电极连接至该第二电极;一反射层,至少形成于该第一介电层的该第一部分及该第二部分之上;以及一永久基板,耦接至该第一发光二极管与该第二发光二极管面对该反射层的一侧。
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