[发明专利]发光二极管阵列及其形成方法无效
申请号: | 201210174881.X | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN103178074A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 陈嘉南;卢怡安 | 申请(专利权)人: | 华夏光股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/10;H01L21/8252 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;祁建国 |
地址: | 大开曼岛*** | 国省代码: | 开曼群岛;KY |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明有关于一种发光二极管阵列及其形成方法。该阵列包含一具有一第一电极的第一发光二极管,以及一具有一第二电极的第二发光二极管。一第一介电层位于第一与第二发光二极管之间。第一介电层的一第一部分至少部分地覆盖第一发光二极管,第一介电层的一第二部分至少部分地覆盖第二发光二极管。一互连线至少部分地位于第一介电层上。该互连线将第一电极连接至第二电极。一反射层至少形成于第一介电层的第一及第二部分之上。一永久基板耦接至发光二极管面对反射层的一侧。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 阵列 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管阵列,其特征在于,包括:一第一发光二极管,包括一第一电极;一第二发光二极管,包括一第二电极,其中该第一发光二极管与该第二发光二极管分离;一第一介电层,位于该第一发光二极管与该第二发光二极管之间,其中该第一介电层的一第一部分至少部分地覆盖该第一发光二极管,该第一介电层的一第二部分至少部分地覆盖该第二发光二极管;一互连线,至少部分地位于该第一介电层之上,该互连线将该第一电极连接至该第二电极;一反射层,至少形成于该第一介电层的该第一部分及该第二部分之上;以及一永久基板,耦接至该第一发光二极管与该第二发光二极管面对该反射层的一侧。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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