[发明专利]用于转印印刷用层叠体的基膜、该层叠体及基膜的制造方法有效
| 申请号： | 201210165197.5 | 申请日： | 2012-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN102795013A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 宫户学;北村秀一 | 申请（专利权）人： | 日本合成化学工业株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382;B41M5/41;B44C1/24 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用于转印印刷用层叠体的基膜、该层叠体及基膜的制造方法。本发明提供一种用于转印立体设计的转印印刷用层叠体的基膜、其制造方法、使用了该基膜的转印印刷用层叠体。本发明的基膜的特征在于具有高度差5~200μm的凹凸形状，所述凹凸形状优选通过压花加工来形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 印刷 层叠 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种转印印刷用层叠体的基膜，其特征在于，其为用于转印立体设计的转印印刷用层叠体的基膜，该基膜具有高度差5~200μm的凹凸形状。
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