[发明专利]用于计算光源入射到介质的散射电磁场分布的方法有效
| 申请号： | 201210144797.3 | 申请日： | 2012-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN103390094A | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 刘志钧;徐益平;施耀明;刘国祥;张振生 | 申请（专利权）人： | 睿励科学仪器（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F19/00 | 分类号： | G06F19/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于计算光源入射到介质的散射电磁场分布的方法，其中，所述光源的入射角是Littrow-Mounting入射角，所述介质具有对称结构，所述方法包括：a.将所述光源分解为与所述对称结构相对应的对称光源和反对称光源；b.基于严格波耦合分析理论计算所述对称光源和所述反对称光源中的一种光源入射到所述介质的散射电磁场分布；c.基于严格波耦合分析理论计算所述对称光源和所述反对称光源中的另一种光源入射到所述介质的散射电磁场分布；以及d.将步骤b中计算得到的散射电磁场分布与步骤c中计算得到的散射电磁场分布相加，以得到所述光源入射到所述介质的散射电磁场分布。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 计算 光源 入射 介质 散射 电磁场 分布 方法 | ||
【主权项】：
一种用于计算光源入射到介质的散射电磁场分布的方法，其中，所述光源的入射角是Littrow‑Mounting入射角，所述介质具有对称结构，所述方法包括：a.将所述光源分解为与所述对称结构相对应的对称光源和反对称光源；b.基于严格波耦合分析理论计算所述对称光源和所述反对称光源中的一种光源入射到所述介质的散射电磁场分布；c.基于严格波耦合分析理论计算所述对称光源和所述反对称光源中的另一种光源入射到所述介质的散射电磁场分布；以及d.将步骤b中计算得到的散射电磁场分布与步骤c中计算得到的散射电磁场分布相加，以得到所述光源入射到所述介质的散射电磁场分布。
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G06F19-12 ..用于系统生物学的建模或仿真，例如：概率模型或动态模型，遗传基因管理网络，蛋白质交互作用网络或新陈代谢作用网络
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