[发明专利]双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法有效
| 申请号： | 201210138025.9 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103383271A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 刘育;刘剑;袁志扬 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01D5/26 | 分类号： | G01D5/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法。每个硅片台的交换位置测量装置包括：X向位置测量系统和Y向位置测量系统，其中，X向位置测量系统包括设置在硅片台上的两个X向干涉仪和X向反射镜；上述两个X向干涉仪与X向反射镜结合测量硅片台在X向的位置；Y向位置测量系统包括两个Y向干涉仪和两个Y向反射镜，上述两个Y向干涉仪设置在硅片台上，上述两个Y向反射镜分别与两个Y向干涉仪结合测量硅片台在Y向的位置。本发明的交换位置测量装置结构筒单，避免测量范围受硅片台尺寸的限制，同时受外界各种干扰影响小。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 交换 系统 位置 测量 装置 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
一种双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，每个硅片台的交换位置测量装置包括：X向位置测量系统和Y向位置测量系统，其中，X向位置测量系统包括设置在硅片台上的两个X向干涉仪和X向反射镜；上述两个X向干涉仪与X向反射镜结合测量硅片台在X向的位置；Y向位置测量系统包括两个Y向干涉仪和两个Y向反射镜，上述两个Y向干涉仪设置在硅片台上，上述两个Y向反射镜分别与两个Y向干涉仪结合测量硅片台在Y向的位置。
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