[发明专利]双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法有效
| 申请号： | 201210138025.9 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103383271A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 刘育;刘剑;袁志扬 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01D5/26 | 分类号： | G01D5/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅片 交换 系统 位置 测量 装置 及其 测量方法 | ||
1.一种双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，每个硅片台的交换位置测量装置包括：X向位置测量系统和Y向位置测量系统，其中，X向位置测量系统包括设置在硅片台上的两个X向干涉仪和X向反射镜；上述两个X向干涉仪与X向反射镜结合测量硅片台在X向的位置；Y向位置测量系统包括两个Y向干涉仪和两个Y向反射镜，上述两个Y向干涉仪设置在硅片台上，上述两个Y向反射镜分别与两个Y向干涉仪结合测量硅片台在Y向的位置。
2.根据权利要求1所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，两个X向反射镜分别设置在双硅片台交换系统的两个线缆台上，保证两个X向反射镜与对应两个X向干涉仪在Y向保持同步运动；两个Y向反射镜安装在双硅片台交换系统的框架上。
3.根据权利要求1所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，上述两个X向反射镜和两个Y向反射镜均安装在双硅片台交换系统的框架上。
4.根据权利要求1所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，上述两个X向反射镜安装在双硅片台交换系统的框架上；上述两个Y向反射镜分别安装在双硅片台交换系统的两个线缆台的干涉仪支架上。
5.根据权利要求4所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，Y向位置测量系统还包括光栅尺，设置在双硅片台交换系统的导轨上，用于测量双硅片台交换系统的线缆台相对于双硅片台交换系统的框架的Y向位置，从而得到硅片台相对于框架的Y向位置。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置，其特征在于，其中上述X向干涉仪和上述Y向干涉仪为单轴干涉仪或多轴干涉仪。
7.根据权利要求1-5中任意一项所述的双硅片台交换系统的交 换位置测量装置，其特征在于，X向反射镜和Y向反射镜为长条形。
8.一种应用权利要求1-5中任意一项所述的双硅片台交换系统的交换位置测量装置的测量方法，其特征在于，包括下列步骤：
两个X向干涉仪分别测量硅片台上两点相对于双硅片台交换系统的X向位置；
Y向干涉仪测量硅片台相对于双硅片台交换系统的Y向位置；
通过硅片台上两点的X向位置可计算出Rz向的偏差，并通过闭环控制系统调整偏差。
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