[发明专利]增强型全局对准标记和光刻版图无效
| 申请号： | 201210122553.5 | 申请日： | 2012-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN102645855A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 岳力挽;赵新民;周孟兴;王彩虹 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种增强型全局对准标记和光刻版图，其中所述光刻版图，包括：第一方向切割道和与第一方向切割道交叉的第二方向切割道，第一方向垂直于第二方向；位于第一方向切割道和第二方向切割道交叉处的增强型全局对准标记，所述增强型全局对准标记包括：在第一方向的切割道内沿第一方向等间距平行分布的若干第一条形标记，构成第一条形标记阵列；在第二方向切割道内沿第二方向等间距平行分布的若干第二条形标记，第二条形标记对称的分布在第一条形标记阵列的两侧，第一条形标记在第一方向上分布区域的长度大于第二条形标记的长度。在切割道的宽度减小时，提高了对准和套刻的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 增强 全局 对准 标记 光刻 版图 | ||
【主权项】：
一种增强型全局对准标记，其特征在于，包括：沿第一方向等间距平行分布的若干第一条形标记，构成第一条形标记阵列；沿第二方向等间距平行分布的若干第二条形标记，第一方向垂直于第二方向，第二条形标记对称的分布在第一条形标记阵列的两侧，第一条形标记在第一方向上分布区域的长度大于第二条形标记的长度。
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