[发明专利]电感耦合等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201210119474.9 | 申请日： | 2012-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102751157A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木和男;东条利洋 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王轶;尹文会 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种电感耦合等离子体处理装置，该电感耦合等离子体处理装置能够对应被处理基板的大型化，并且能够使得处理室内中的等离子体分布的控制性良好。所述装置具备：用于在处理室内的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体的高频天线(11a、11b)；以及配置于等离子体生成区域与高频天线之间的金属窗(3)，金属窗(3)被进行第一分割、并且被进行第二分割(3a1～3a4、3b1～3b4)，所谓所述第一分割将金属窗沿该金属窗(3)的周向(θ)相互电绝缘地分割成两个以上(3a、3b)，所谓所述第二分割将被进行了第一分割后的金属窗(3)沿与周向(θ)交叉的方向(r1、r2)相互电绝缘地进一步分割。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种电感耦合等离子体处理装置，其在处理室内的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体，来对基板进行等离子体处理，所述电感耦合等离子体处理装置的特征在于，具备：用于在使所述等离子体生成区域产生所述电感耦合等离子体的高频天线；以及被配置在所述等离子体生成区域与所述高频天线之间的金属窗，所述金属窗被进行第一分割、并且被进行第二分割，所谓所述第一分割，将所述金属窗沿该金属窗的周向相互电绝缘地分割成两个以上，所谓所述第二分割，将被进行了所述第一分割后的金属窗沿与所述周向交叉的方向相互电绝缘地分割。
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