[发明专利]用于实现原子层沉积工艺的设备

摘要

本发明公开了一种用于实现原子层沉积工艺的设备，涉及原子层沉积技术领域，所述设备包括：反应模块，所述反应模块进一步包括：反应腔室、加热单元、预热腔室、预热单元、前驱物进料单元、抽气单元及控制单元；预热单元，用于对预热腔室中的基板进行预热；加热单元，用于对反应腔室及反应腔室中的基板进行加热；前驱物进料单元，用于为反应腔室内的基板提供气态的前驱物；抽气单元，用于对反应腔室进行抽气，以保证反应腔室内的基板进行反应之前，反应腔室处于真空状态。本发明通过设置预热单元来缩短反应时间，提高了反应效率，提高了原子层沉积设备的生产效率，并进一步通过多个反应腔室共同使用部分部件，使得设备结构简单、占地面积较小。

主权项

一种用于实现原子层沉积工艺的设备，其特征在于，所述设备包括：反应模块，所述反应模块进一步包括：反应腔室、加热单元、预热腔室、预热单元、前驱物进料单元、抽气单元及控制单元；所述预热单元，用于对所述预热腔室中的基板进行预热；所述加热单元，用于对所述反应腔室及所述反应腔室中的基板进行加热；所述前驱物进料单元，用于为所述反应腔室内的基板提供气态的前驱物；所述抽气单元，用于对所述反应腔室进行抽气，以保证所述反应腔室内的基板进行反应之前，所述反应腔室处于真空状态；所述控制单元，用于对所述加热单元、预热单元、前驱物进料单元、以及抽气单元分别进行控制和状态检测。