[发明专利]用于实现原子层沉积工艺的设备

权利要求书

1.一种用于实现原子层沉积工艺的设备，其特征在于，所述设备包括：反应模块，所述反应模块进一步包括：反应腔室、加热单元、预热腔室、预热单元、前驱物进料单元、抽气单元及控制单元；

所述预热单元，用于对所述预热腔室中的基板进行预热；

所述加热单元，用于对所述反应腔室及所述反应腔室中的基板进行加热；

所述前驱物进料单元，用于为所述反应腔室内的基板提供气态的前驱物；

所述抽气单元，用于对所述反应腔室进行抽气，以保证所述反应腔室内的基板进行反应之前，所述反应腔室处于真空状态；

所述控制单元，用于对所述加热单元、预热单元、前驱物进料单元、以及抽气单元分别进行控制和状态检测。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述反应模块的数量为一个或多个。

3.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备包括：基板供应模块，所述基板供应模块进一步包括：送料元件和基板传输单元；

所述基板传输单元，用于将基板传输至送料元件；

所述送料元件，用于在所述控制单元的控制下，将所述基板运送至所述预热腔室或反应腔室中、或者将所述预热腔室或反应腔室中的基板运送至所述基板传输单元上。

4.如权利要求3所述的设备，其特征在于，所述基板供应模块还包括：基板承载单元和装片单元，其中，所述基板承载单元，用于承载至少一块基板，所述装片单元，用于在所述控制单元的控制下，将基板装载至所述基板承载单元上，或者将所述基板承载单元上的基板进行卸载，所述送料元件在运送基板时，以所述基板承载单元为单位。

5.如权利要求4所述的设备，其特征在于，所述控制单元包括：电气控制子单元，用于控制所述预热单元的预热时间、所述反应腔室中基板的反应时间、以及基板承载单元上基板的装载/卸载；

气路控制子单元，用于控制所述前驱物进料单元所供应气态的前驱物的时间和流量；

温度控制子单元，用于控制所述反应腔室和所述基板承载单元的温度。

6.如权利要求1～5中任一项所述的设备，其特征在于，所述反应模块设有外壳。

7.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述外壳连有排气单元，所述排气单元，用于接收外壳内的气体，并将接收到的气体传输至所述尾气处理单元；一尾气处理单元与所述排气单元连接，

所述尾气处理单元用于对所述排气单元所传输的气体进行净化。