[发明专利]反应气体溅镀装置无效
| 申请号： | 201210115391.2 | 申请日： | 2012-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103374701A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 芈振伟 | 申请（专利权）人： | 芈振伟 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明关于一种反应气体溅镀装置，其是在一反应溅镀腔体中设有至少一辅助阳极气体离子源，当溅镀制程进行时，未沉积于基板的残余金属原子，其会喷溅至反应溅镀腔体的内壁或遮蔽板，该金属原子残余物因为未被氧化可能会造成之后的危险，故以该辅助阳极气体离子源，将该残余金属原子氧化为安全的金属氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 气体 装置 | ||
【主权项】：
一种反应气体溅镀装置，其包含有：一反应溅镀腔体；多个阴极氧化板，其设于该反应溅镀腔体的内壁处；至少一磁控阴极溅镀装置，其设于该反应溅镀腔体中；以及至少一阳极气体离子源，其设于该反应溅镀腔体内壁；以及一鼓轮体，其以可转动设于该反应溅镀腔体中；以及一辅助阳极气体离子源，其设于该鼓轮体，并与该鼓轮体连动。
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