[发明专利]光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201210110377.3 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102749805A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;安立由香子;藤田真吾 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;C07C381/12;C07C309/17;C07C303/32;C07D327/08;C07D327/06;C07D333/46;C07C25/18;C07C17/35 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含(A)树脂，所述树脂具有含有酸不稳定基团的结构单元和含有内酯环的结构单元；以及(B)由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示0或1，L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L1不是单键，R1表示羟基或由保护基保护的羟基，并且Z+表示有机阳离子。 |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 用于 制备 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：(A)树脂，所述树脂具有含有酸不稳定基团的结构单元和含有内酯环的结构单元，以及(B)由式(I)表示的盐：![]()
其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示0或1，L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L1不是单键，R1表示羟基或由保护基保护的羟基，并且Z+表示有机阳离子。
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