[发明专利]光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：

(A)树脂，所述树脂具有含有酸不稳定基团的结构单元和含有内酯环的结构单元，以及

(B)由式(I)表示的盐：

其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，

n表示0或1，

L¹表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L¹不是单键，

R¹表示羟基或由保护基保护的羟基，并且

Z⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含溶剂。

3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中n是1。

4.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中L¹是单键。

5.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中R¹是羟基。

6.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中R¹是由保护基保护的羟基，并且由式(2A)表示，

其中R^a61′和R^a62′独立地各自表示氢原子或C1-C12一价烃基，并且R^a63′表示C1-C20一价烃基，或

R^a63′与R^a62′一起表示C2-C20二价烃基，并且

所述一价烃基中的亚甲基可以被氧原子或硫原子代替，并且所述二价烃基中的亚甲基可以被氧原子或硫原子代替。

7.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中Z⁺是芳基锍阳离子。

8.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述含有内酯环的结构单元由式(a3-1)、式(a3-2)或式(a3-3)表示：

其中L^a4、L^a5和L^a6各自独立地表示*-O-(CH₂)_k3-CO-O-，其中*表示与-CO-的结合位置并且k3表示1至7的整数，R^a18、R^a19和R^a20各自独立地表示氢原子或甲基，

R^a21表示C1-C4脂族烃基，R^a22和R^a23在每次出现时独立地为羧基、氰基或C1-C4脂族烃基，并且p1表示0至5的整数，q1和r1独立地各自表示0至3的整数。

9.根据权利要求8所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述含有内酯环的结构单元由式(a3-2)表示，其中L^a5表示*-O-(CH₂)_k3-CO-O-，其中*表示与-CO-的结合位置并且k3表示1至7的整数，并且q1是0。

10.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述含有酸不稳定基团的结构单元由式(a1-1)或式(a1-2)表示：

其中L^a1和L^a2各自独立地表示*-O-或*-O-(CH₂)_k1-CO-O-，其中*表示与-CO-的结合位置，并且k1表示1至7的整数，R^a4和R^a5各自独立地表示氢原子或甲基，R^a6和R^a7各自独立地表示C1-C10脂族烃基，m1表示0至14的整数，并且n1表示0至10的整数。

11.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂还包含含有羟基金刚烷-1-基的结构单元。