[发明专利]一种制备少层石墨烯片的方法无效
| 申请号： | 201210107130.6 | 申请日： | 2012-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN102627272A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 卢文卜;邢志财;王磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种制备少层石墨烯片的方法，本发明属于石墨烯制备领域，为解决现有制备方法存在的技术缺陷，包括制备过程时间长、产率低和不适于大规模生产等，现提供一种可以快速、大规模、高产量制备少层石墨烯片的方法。本方法包括以下步骤：将氯磺酸和过氧化氢分别加入到石墨粉中，离心、水洗、真空干燥和二次离心后得到少层石墨烯片。本发明的有益效果在于，该方法为今后大规模生产石墨烯片奠定了基础。通过使用剥离试剂氯磺酸和过氧化氢可以成功快速从石墨粉中获得高产量的石墨烯，该石墨烯由单层或少层石墨烯片组成，在制备过程石墨烯中没有被氧化成石墨烯氧化物，并具有单一分散、高质量、高导电率(2.4*104S/m)的优异性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 石墨 方法 | ||
【主权项】：
一种制备少层石墨烯片的方法，其特征在于，包括以下步骤：将氯磺酸和过氧化氢分别加入到石墨粉中，离心、水洗、真空干燥和二次离心后得到少层石墨烯片。
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