[发明专利]利用化学增幅型光刻胶组合物进行小沟槽图案化的方法有效
| 申请号： | 201210102118.6 | 申请日： | 2012-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN103163730A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 张雅惠;刘家助 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人： | 陆鑫;房岭梅 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明描述了一种在衬底上形成图案的方法。该方法包括提供衬底，在衬底上方形成感光层，通过第一掩模使感光层暴露于第一曝光能量，通过第二掩模使感光层暴露于第二曝光能量，烘烤感光层，以及使经曝光的感光层显影。该感光层包括转变成溶于显影液的聚合物、至少一种光生酸剂(PAG)、以及至少一种光生碱剂(PBG)。暴露于第二曝光能量的层的一部分与暴露于第一曝光能量的一部分重叠。本发明提供了利用化学增幅型光刻胶组合物进行小沟槽图案化的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 化学 增幅 光刻 组合 进行 沟槽 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在衬底上形成图案的方法，所述方法包括：提供衬底；在所述衬底上方形成感光层，其中，所述感光层包含转变成溶于显影液的聚合物、至少一种光生酸剂(PAG)、以及至少一种光生碱剂(PBG)；通过第一掩模使所述感光层暴露于第一曝光能量；通过第二掩模使所述感光层暴露于第二曝光能量，其中，暴露于所述第二曝光能量的所述层的一部分与暴露于所述第一曝光能量的一部分重叠；烘烤所述感光层；以及使经曝光的所述感光层显影。
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