[发明专利]利用化学增幅型光刻胶组合物进行小沟槽图案化的方法有效

专利信息
申请号: 201210102118.6 申请日: 2012-04-09
公开(公告)号: CN103163730A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 张雅惠;刘家助 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20;G03F7/004
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 利用 化学 增幅 光刻 组合 进行 沟槽 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种用于在衬底上形成图案的方法,所述方法包括:

提供衬底;

在所述衬底上方形成感光层,其中,所述感光层包含转变成溶于显影液的聚合物、至少一种光生酸剂(PAG)、以及至少一种光生碱剂(PBG);

通过第一掩模使所述感光层暴露于第一曝光能量;

通过第二掩模使所述感光层暴露于第二曝光能量,其中,暴露于所述第二曝光能量的所述层的一部分与暴露于所述第一曝光能量的一部分重叠;

烘烤所述感光层;以及

使经曝光的所述感光层显影。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一曝光能量足以活化所述PAG,所述第二曝光能量足以活化所述PAG和PBG。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述PAG以第一浓度存在,以及所述PBG以第二浓度存在,并且其中,所述第二浓度大于或等于所述第一浓度。

4.根据权利要求3所述的方法,进一步包括调节所述第一浓度、所述第二浓度、或这两者以改善所述图案中的对比度和/或临界尺寸。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第二浓度大于所述第一浓度,并且暴露于所述第二曝光能量的所述感光层的所述部分在使经曝光的所述感光层显影之后仍保留;或者所述第二浓度约等于所述第一浓度,并且暴露于所述第二曝光能量的所述感光层的所述部分在使所述经曝光的感光层显影之后被洗掉。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第二曝光能量的强度高于所述第一曝光能量的强度。

7.根据权利要求1所述的方法,进一步包括调节所述第一曝光能量、所述第二曝光能量、或这两者的强度以改善所述图案中的对比度和/或临界尺寸。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述PAG包含锍鎓盐、碘鎓盐、磺酰基重氮甲烷类化合物、N-磺酰基氧基酰亚胺类化合物、苯偶姻磺酸酯类化合物、连苯三酚三磺酸酯类化合物、硝基苄基磺酸酯类化合物、砜类化合物、以及乙二肟衍生物中的一种或多种;以及其中,所述PBG包含氨基甲酸酯、氨基甲酰基羟胺、肟、磺酰胺、或内酰胺中的一种或多种。

9.一种用于在衬底上形成图案的方法,包括:

提供衬底;

在衬底上形成感光层,所述感光层包含转变成溶于显影液的聚合物、响应于第一曝光能量分解以形成酸的第一浓度的光生酸剂(PAG)、以及响应于第二曝光能量分解以形成碱的第二浓度的光生碱剂(PBG);

通过第一掩模使所述感光层暴露于所述第一曝光能量;

通过第二掩模使所述感光层暴露于所述第二曝光能量,其中暴露于所述第二曝光能量的所述层的一部分与暴露于所述第一曝光能量的一部分重叠;

烘烤所述感光层;以及

使经曝光的所述感光层显影。

10.一种用于在衬底上形成图案的方法,包括:

提供衬底;

在衬底上形成感光层,所述感光层包含转变成溶于显影液的聚合物、响应于第一曝光能量分解以形成酸的第一浓度的光生酸剂(PAG)、以及响应于第二曝光能量分解以形成碱的第二浓度的光生碱剂(PBG);

调节所述第一浓度、所述第二浓度或这两者,以改善所述图案中的对比度和/或临界尺寸;

调节所述第一曝光能量、所述第二曝光能量、或这两者的强度,以改善所述图案中的对比度和/或临界尺寸;

通过第一掩模使所述感光层暴露于所述第一曝光能量;

通过第二掩模使所述感光层暴露于所述第二曝光能量,其中暴露于所述第二曝光能量的所述层的一部分与暴露于所述第一曝光能量的一部分重叠;

烘烤所述感光层;以及

使所述经曝光的感光层显影。

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