[发明专利]气相沉积装置和方法以及制造有机发光显示装置的方法有效
| 申请号: | 201210102038.0 | 申请日: | 2012-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN102877039A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
| 发明(设计)人: | 徐祥准;宋昇勇;金胜勋;金镇圹 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;H05B33/10;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供了一种能够执行薄膜沉积工艺并提高所形成的薄膜的特性的气相沉积装置、一种气相沉积方法和一种制造有机发光显示装置的方法,所述气相沉积装置包括:室,具有排放开口;架台,设置在所述室内,并包括安装表面,所述基底可以安装在所述安装表面上;注入单元,具有至少一个注入开口,所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内;引导构件,面向所述基底,以在所述基底和所述引导构件之间提供设定的或预定的空间;驱动单元,用于传送所述架台和所述引导构件。 | ||
| 搜索关键词: | 沉积 装置 方法 以及 制造 有机 发光 显示装置 | ||
【主权项】:
一种用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置,所述装置包括:室,具有排放开口;架台,在所述室内,并包括安装表面,所述安装表面被构造为用于使所述基底安装在其上;注入单元,具有至少一个注入开口,所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内;引导构件,面向所述基底,以在所述基底和所述引导构件之间提供空间;驱动单元,用于传送所述架台和所述引导构件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210102038.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种智能主动放料系统
- 下一篇:用于上行链路秩自适应的方法、设备和系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





