[发明专利]一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺无效
| 申请号： | 201210093645.5 | 申请日： | 2012-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102590944A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王明华;杨建义;王毅强;郝寅雷;商惠琴 | 申请（专利权）人： | 上海光芯集成光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/134 | 分类号： | G02B6/134;G02B6/136;G02B6/13 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 200072 上海市闸*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺，主要工艺步骤包括：(一)玻璃基材表面清洗；(二)掩膜材料成膜；(三)图形转移；所用的掩膜材料为与熔融银盐和玻璃基材不发生反应的介质材料或者金属材料或者聚合物材料。与现有技术相比，采用所选用的掩膜材料和相应的工艺，可以避免掩膜与离子交换熔盐和玻璃基材的反应，在离子交换过程中可以制备出低损耗的离子交换光波导和PLC光分路器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子交换 玻璃 基材 工艺 | ||
【主权项】：
一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺，主要工艺步骤包括：(一)玻璃基材表面清洗；(二)掩膜材料成膜；(三)图形转移；其特征在于，所用的掩膜材料为与熔融银盐和玻璃基材不发生反应的介质材料或者金属材料或者聚合物材料。
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