[发明专利]一种大电流密度的钡钨阴极及其制备方法有效
申请号: | 201210090817.3 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN102637566A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 吴华夏;邓清东;贺兆昌;宋田英;张丽 | 申请(专利权)人: | 安徽华东光电技术研究所 |
主分类号: | H01J23/04 | 分类号: | H01J23/04;H01J9/02;B22F7/04 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 张小虹 |
地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种大电流密度的钡钨阴极及其制备方法,钡钨阴极包括阴极钼筒(3)和填充在阴极钼筒(3)内的双层基底,双层基底包括上层和下层,上层是采用圆球形状的钨粉做为基底材料压制而成的球形钨粉层(1),且钨粉的粒径是4μm;下层是采用钨粉与铼粉混合做为基底材料压制而成的钨铼合金层(2),且钨粉和铼粉按照20%∶80%比例混合均匀。具有上述特殊结构的该种大电流密度的钡钨阴极采用双层基底,上层采用特定形状特定颗粒的钨粉做为基底材料压制而成,下层采用钨粉与铼粉混合做为基底材料压制而成,可稳定地提供100A/cm2的电流密度,满足大功率、高频率微波器件对阴极的需求,为微波器件的发展提供强有力的保障。 | ||
搜索关键词: | 一种 电流密度 阴极 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种大电流密度的钡钨阴极,其特征在于:所述的钡钨阴极包括阴极钼筒(3)和填充在阴极钼筒(3)内的双层基底,所述的双层基底包括上层和下层,上层是采用圆球形状的钨粉做为基底材料压制而成的球形钨粉层(1),下层是采用钨粉与铼粉混合做为基底材料压制而成的钨铼合金层(2)。
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