[发明专利]一种基于相位修正的RCS外推方法无效

专利信息
申请号: 201210089441.4 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN102608591A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 李南京;陈卫军;李瑛;刘琦;刘宁;张麟兮;郭淑霞;周扬 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41;G01S7/40
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于相位修正的RCS外推方法,其特征在于步骤如下:在微波暗室中对参考平板进行近距RCS测试,得到参考平板的散射值Eplane_s(α);计算参考平板的远场理论值Eplane_∞(α);在微波暗室中对目标进行近距RCS测试,得到目标在该距离下的散射值Es(α);计算F-1[Esi(α)]后对F-1[Esi(α)]进行傅里叶变换,得到目标的远场散射值Esi(α)。本发明方法,通过RCS近距离测试,对得到的数据做相位修正就可获得远场,这样就能在缩减了测试距离的情况下,实现RCS测试,使RCS测试更加方便。
搜索关键词: 一种 基于 相位 修正 rcs 方法
【主权项】:
1.一种基于相位修正的RCS外推方法,其特征在于步骤如下:步骤1:在微波暗室中对参考平板进行近距RCS测试,得到参考平板的散射值Eplane_s(α),其中α为测试方位角;步骤2:计算参考平板的远场理论值Eplane_∞(α);其中ω分别为在测试频率下的平板散射场的传播矢量与角频率。A为散射场的矢量磁位,μ为自由空间磁导率,J为平板面电流密度,这里假设为1,R为板上的每点到测试点的距离,k为波数;步骤3:在微波暗室中对目标进行近距RCS测试,得到目标在该距离下的散射值Es(α);步骤4:根据下式计算F-1[Esi(α)];F-1[Esi(α)]F-1[Eplane_(α)]F-1[Eplane_s(α)]F-1[Es(α)];]]>步骤5:对F-1[Esi(α)]进行傅里叶变换,得到目标的远场散射值Esi(α),F-1[·]为逆傅里叶变换。
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