[发明专利]一种基于相位修正的RCS外推方法无效

专利信息
申请号: 201210089441.4 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN102608591A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 李南京;陈卫军;李瑛;刘琦;刘宁;张麟兮;郭淑霞;周扬 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41;G01S7/40
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 相位 修正 rcs 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种基于相位修正的RCS外推方法,运用相位修正系数对近距散射测试数据进行外推至远场RCS的方法。属于微波领域。

背景技术

在RCS测试中,总希望雷达波为均匀平面波照射目标。工程实际表明,只要被测目标的最远边缘与目标中心接收信号的相位差不大于π/8就算能够满足远场条件。但是一般当测试频率较高和目标的物理尺寸较大时,测试距离迅速增大,远场测试除了其高昂的费用外,对测试仪器的灵敏度和雷达发射功率都提出了很高的要求。所以很有必要开发一种近距离的测试技术,通过修正的办法来外推远场RCS。

发明内容

要解决的技术问题

为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种基于相位修正的RCS外推方法,实现近距离条件下对电大目标有效的RCS测试,节约测试成本和降低测试难度。

技术方案

一种基于相位修正的RCS外推方法,其特征在于步骤如下:

步骤1:在微波暗室中对参考平板进行近距RCS测试,得到参考平板的散射值Eplane_s(α),其中α为测试方位角;

步骤2:计算参考平板的远场理论值Eplane_∞(α);其中ω分别为在测试频率下的平板散射场的传播矢量与角频率;A为散射场的矢量磁位,μ为自由空间磁导率,J为平板面电流密度,取值为1;R为板上的每点到测试点的距离,k为波数;

步骤3:在微波暗室中对目标进行近距RCS测试,得到目标在该距离下的散射值Es(α);

步骤4:根据下式计算F-1[Esi(α)];F-1[Esi(α)]F-1[Eplane_(α)]F-1[Eplane_s(α)]F-1[Es(α)];]]>

步骤5:对F-1[Esi(α)]进行傅里叶变换,得到目标的远场散射值Esi(α),F-1[·]为逆傅里叶变换。

有益效果

本发明提出的一种基于相位修正的RCS外推方法,在近距RCS测试条件下时,目标的横向尺寸过大不满足远场条件,但往往高程方向尺寸能满足远场条件。这样就可以近似地认为目标区的场具有柱面波的特性。由于柱面波前在其中的一维方向(高程方向)上是平坦的,在另一维方向(横向)上是弯曲的,因而就会造成相位误差,可对近距测试数据运用相位修正系数进行修正,从而得到远场RCS数据,实现大尺寸目标的测试。通过RCS近距离测试,对得到的数据做相位修正就可获得远场,这样就能在缩减了测试距离的情况下,实现RCS测试,使RCS测试更加方便。

附图说明

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