[发明专利]偏振板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210078056.X 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN102692666B 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 高畑弘明;古川淳;广岩梓;清水英满 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明一种制造偏振板(4)的方法,其具备以下的(A)~(D)各工序。(A)使用具有胶粘剂的涂布厚度的控制部的涂敷机在光学膜(2)上涂布胶粘剂的工序;(B)通过利用了将分光波长区域设定在超过800nm的范围内的分光干涉法的2个分光干涉式膜厚计(14、15)测定涂敷前后的膜的厚度,由该厚度差求得涂布后的胶粘剂的厚度的工序;(C)在光学膜(2)的胶粘剂涂布面上重叠偏光膜(1),相对于偏光膜(1)用夹持辊(20、21)对光学膜(2)加压,使偏光膜(1)和光学膜(2)借助胶粘剂进行贴合的工序;及(D)基于得到的胶粘剂的测定厚度X与胶粘剂的设定厚度Y对控制机构进行控制的工序。
搜索关键词: 偏振 制造 方法
【主权项】:
一种偏振板的制造方法,其具有以下的工序:工序(A):使用具有胶粘剂的涂布厚度的控制部的涂敷机,在热塑性树脂制的光学膜上涂布所述胶粘剂;工序(B):使用分光干涉式膜厚计,在分光干涉式膜厚计和光学膜之间设置近红外偏振光滤波器的状态下,利用将分光波长区域设定在超过800nm的范围内的分光干涉法,对涂布所述胶粘剂之前的光学膜的光学厚度与涂布所述胶粘剂后的光学膜的光学厚度进行测定,基于所述涂布胶粘剂前的光学膜的光学厚度与所述涂布胶粘剂后的光学膜的光学厚度之差求得涂布后的所述胶粘剂的厚度;工序(C):在经过所述测定的所述光学膜的胶粘剂涂布面上,重叠聚乙烯醇系树脂制的偏光膜,相对于所述偏光膜对所述光学膜进行加压,使所述偏光膜与所述光学膜借助所述胶粘剂进行贴合;及(D)基于在0.5~5μm的范围内设定的所述胶粘剂的设定厚度Y与所述胶粘剂的被求出的厚度X,对所述控制部进行控制的工序。
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