[发明专利]光掩模的制造方法、图案转印方法及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供一种光掩模的制造方法、图案转印方法以及显示装置的制造方法，即使在被加工体上形成细微的间距宽度的线与间隙图案的情况下，也基本不需要追加投资地进行图案形成。设定基于蚀刻被加工体时的蚀刻条件的侧蚀刻宽度α。根据膜图案的线宽WL、间隙宽度WS各方和侧蚀刻宽度α，设定抗蚀剂图案的线宽RL和间隙宽度RS。根据具有所确定的线宽RL和间隙宽度RS的抗蚀剂图案，确定曝光时的曝光条件以及转印用图案的线宽ML和间隙宽度MS。另外，转印用图案的线宽ML与所确定的线宽RL不同，转印用图案的间隙宽度MS与所确定的间隙宽度RS不同。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具有包含间距宽度P的线与间隙图案的转印用图案，该光掩模通过使用了所述光掩模的曝光，在形成在被加工体上的正性的抗蚀剂膜上转印所述转印用图案而形成抗蚀剂图案，通过将所述抗蚀剂图案用作掩模的蚀刻，在所述被加工体上形成线宽WL、间隙宽度WS的线与间隙的膜图案，该光掩模的制造方法的特征在于，设定基于蚀刻所述被加工体时的蚀刻条件的侧蚀刻宽度α，根据所述膜图案的线宽WL、间隙宽度WS各方和所述侧蚀刻宽度α，设定所述抗蚀剂图案的线宽RL和间隙宽度RS，根据具有所确定的所述线宽RL和间隙宽度RS的抗蚀剂图案，确定所述曝光时的曝光条件以及所述转印用图案的线宽ML和间隙宽度MS，并且，所述转印用图案的线宽ML与所确定的所述线宽RL不同，所述转印用图案的间隙宽度MS与所确定的所述间隙宽度RS不同。