[发明专利]一种光响应杂化纳米粒子的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210065399.2 申请日: 2012-03-13
公开(公告)号: CN102604007A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 董志鑫;姬相玲;毛骏;王大鹏;杨木泉;薛彦虎 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: C08F292/00 分类号: C08F292/00;C08F220/34;C08F220/32;C08J3/28;C08J3/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波;逯长明
地址: 130000 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开了一种光响应杂化纳米粒子的制备方法,利用原子转移自由基聚合(ATRP)的方法将甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯(DMAEMA)及双键修饰的香豆素(CMA)共聚接枝在SiO2纳米粒子表面,制备了光响应的SiO2-g-P(DMAEMA-co-CMA)杂化纳米粒子。与现有技术相比,本发明首次将DMAEMA和CMA共聚接枝到SiO2纳米粒子表面,制备的杂化纳米粒子具有光响应性,兼有生物相容性和“两栖性”。本发明提供的制备方法反应条件温和,方法简便易行,制备周期短,易于大规模生产。实验结果表明,通过调节紫外光照的波长,光响应杂化纳米粒子聚合物壳层交联-解交联过程可逆;并且制备的光响应杂化纳米粒子具有尺寸分布窄和尺寸可调的特点。
搜索关键词: 一种 响应 纳米 粒子 制备 方法
【主权项】:
一种光响应杂化纳米粒子的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将甲基丙烯酸N,N‑二甲基氨基乙酯、双键修饰的香豆素、CuX2、五甲基二亚乙基三胺、引发剂修饰的SiO2纳米粒子和第一溶剂混合,得到第一混合液;将所述第一混合液进行脱氧处理,加入CuX后得到反应原料液,所述CuX2和CuX中的X分别为Cl或Br;对所述反应原料液进行脱氧处理,反应后得到光响应杂化纳米粒子。
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