[发明专利]一种光响应杂化纳米粒子的制备方法

权利要求书

1.一种光响应杂化纳米粒子的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将甲基丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、双键修饰的香豆素、CuX₂、五甲基二亚乙基三胺、引发剂修饰的SiO₂纳米粒子和第一溶剂混合，得到第一混合液；

将所述第一混合液进行脱氧处理，加入CuX后得到反应原料液，所述CuX₂和CuX中的X分别为Cl或Br；

对所述反应原料液进行脱氧处理，反应后得到光响应杂化纳米粒子。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一溶剂为四氢呋喃或苯甲醚。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述甲基丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、双键修饰的香豆素、五甲基二亚乙基三胺、CuX₂、CuX和引发剂修饰的SiO₂纳米粒子的摩尔比为(400～800)∶(20～40)∶10∶0.5∶5∶1。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述反应的温度为60～80℃。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述得到光响应杂化纳米粒子的反应的时间为2～50小时。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述双键修饰的香豆素按如下方法制备：

步骤a1)将7-羟基-4-甲基香豆素、2-溴乙醇、碳酸钾和无水乙醇混合，回流反应，无水乙醚和水洗、无水乙醇重结晶后得到2-溴乙醇修饰的香豆素；

步骤a2)将所述2-溴乙醇修饰的香豆素、三乙胺和氯仿混合，滴加甲基丙烯酰氯，反应后得到双键修饰的香豆素。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述引发剂修饰的SiO₂纳米粒子中的引发剂为2-溴异丁酰溴。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述引发剂修饰的SiO₂纳米粒子按如下方法制备：

步骤b1)将第二溶剂、氨水、正硅酸乙酯充分混合，得到透明溶胶，分离得到第一产物；

步骤b2)将所述第一产物分散到无水乙醇中，加入氨水，然后与硅烷偶联剂反应，分离得到第二产物；

步骤b3)将所述第二产物分散在无水甲苯中，加入三乙胺或吡啶，冰水浴中滴加2-溴异丁酰溴充分反应，分离，得到引发剂修饰的SiO₂纳米粒子。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括：

将所述光响应杂化纳米粒子的水溶液在波长为365nm的紫外光照射下进行交联反应，得到交联的光响应杂化纳米粒子。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，还包括：

将所述交联的光响应杂化纳米粒子的水溶液在波长为254nm紫外光照射下进行解交联反应。