[发明专利]具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用有效
| 申请号: | 201210061864.5 | 申请日: | 2012-03-10 |
| 公开(公告)号: | CN102620868A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
| 发明(设计)人: | 方运;王逸群;王玮;朱建军;张永红;张宝顺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号: | G01L1/24 | 分类号: | G01L1/24 |
| 代理公司: | 苏州慧通知识产权代理事务所(普通合伙) 32239 | 代理人: | 丁秀华 |
| 地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明揭示了一种具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用。该薄膜应力测量装置包括多光束图形发生器以及光束位置探测器,所述多光束图形发生器与所述光束位置探测器互相垂直排布。本发明提高了薄膜应力测量精度,简化了薄膜应力测量装置的光路布局与装调要求,可被广泛应用于在薄膜应力离线测量装置、薄膜沉积设备、材料外延设备等之中。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 垂直 结构 薄膜 应力 测量 装置 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置,包括多光束图形发生器以及光束位置探测器,其特征在于:所述多光束图形发生器与所述光束位置探测器互相垂直排布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210061864.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。





