[发明专利]具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用

权利要求书

1.一种具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置，包括多光束图形发生器以及光束位置探测器，其特征在于：所述多光束图形发生器与所述光束位置探测器互相垂直排布。

2.根据权利要求1所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置，其特征在于：其还包括光束位置分离器，所述多光束图形发生器产出的光束透过所述光束位置分离器后被被测薄膜表面反射，然后再次通过所述光束位置分离器反射至所述光束位置探测器。

3.根据权利要求2所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置，其特征在于：所述光束位置分离器包括偏振分光棱镜和1/4波片，所述多光束图形发生器产生的光束依次透过所述偏振分光棱镜、所述1/4波片后被被测薄膜表面反射，然后再次通过所述1/4波片并被所述偏振分光棱镜反射至所述光束位置探测器。

4.根据权利要求1所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置，其特征在于：所述多光束图形发生器包括激光器、倒置望远准直光学系统、分束器以及准直透镜，所述激光器发出的单束激光经所述倒置望远准直光学系统进行束斑尺寸压缩后入射到所述分束器上并经所述准直透镜形成平行阵列光束。

5.根据权利要求1所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置，其特征在于：所述光束位置探测器包括成像光学系统和图像传感器。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置在薄膜应力离线测量装置中测量薄膜应力分布时的应用。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置在薄膜沉积设备中实时监测薄膜沉积过程中应力的变化时的应用。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置在材料外延设备中实时监测材料外延过程中应力的变化时的应用。