[发明专利]一种T型栅的制备方法

摘要

本发明公开了一种T型栅的制备方法，属于微电子元器件技术领域。该方法包括在器件衬底外延层表面形成电子束光刻胶层，使电子束光刻胶层形成细栅线条，一体形成栅金属层，形成光学光刻胶层，光刻出栅帽，腐蚀栅金属层，将残留的电子束光刻胶和光学光刻胶剥离七个步骤，从而在外延层上形成T型栅。该方法不仅能够有效降低T型栅的尺寸、提高T型栅制作的效率，还能提高T型栅的成品率以及一致性。

主权项

一种T型栅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在器件衬底外延层上匀电子束光刻胶，形成电子束光刻胶层；对所述电子束光刻胶进行曝光、显影和定影，使所述电子束光刻胶层形成细栅线条，在形成所述细栅线条的区域，所述外延层表面露出；向所述电子束光刻胶表面和露出的外延层表面蒸发栅金属，使所述栅金属填满所述细栅线条区域，并且在所述电子束光刻胶层表面和被栅金属填满的细栅线条区域表面一体形成栅金属层；在所述栅金属层表面匀光学光刻胶，形成光学光刻胶层；应用光刻版，在所述光学光刻胶层光刻出栅帽；对所述栅金属层进行腐蚀，除去被所述栅帽覆盖的区域之外的栅金属；将残留的电子束光刻胶和光学光刻胶剥离，即在所述外延层上形成了T型栅。