[发明专利]一种具有TiN涂层的多孔膜及其制备方法有效
申请号: | 201210039196.6 | 申请日: | 2012-02-21 |
公开(公告)号: | CN102719691A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 崔洪芝;曹丽丽;孙金全;曾荣昌;王灿明 | 申请(专利权)人: | 山东科技大学 |
主分类号: | C22C1/08 | 分类号: | C22C1/08;C22C14/00;C23C8/36;B01D39/20;B22F3/16 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人: | 张一军;王蕊 |
地址: | 266590 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种具有TiN涂层的多孔膜,所述的多孔膜是利用氮等离子束对由Ti+TiH2制成的薄片状压坯进行扫描加热氮化处理,从而形成孔状结构并在孔洞之间的Ti骨架上获得的致密连续的包围着Ti骨架基体的TiN、Ti2N涂层。本发明将多孔材料的获得与涂层的形成一步完成,薄膜孔隙率范围大,制备流程短,效率高,成品率高。这种孔洞表面带有TiN涂层的多孔Ti薄膜,组织均匀、致密,与基体为良好的冶金结合,显微硬度为1270~1430HV。多孔膜与原坯形状、尺寸接近,具有很好的相似性。耐磨、耐蚀性好,可用作催化、环境净化、医疗等行业中的催化剂载体和过滤体,应用前景广阔。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 tin 涂层 多孔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
具有TiN涂层的多孔膜,其特征在于:所述的多孔膜是利用氮等离子束对由Ti+TiH2制成的薄片状压坯进行扫描加热氮化处理,从而形成孔状结构并在孔洞之间的Ti骨架上获得的致密连续的包围着Ti骨架基体的TiN、Ti2N涂层。
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