[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210036739.9 | 申请日： | 2007-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102566319A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | N·R·科珀;S·N·L·唐德斯;J·J·奥坦斯;J·C·范德霍文;E·C·卡迪克;S·舒勒波 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻装置及器件制造方法。本申请记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：台；液体供给系统，配置用于向所述台上的对象与投影系统(PL)之间的空间提供液体；和位于所述台中的排放装置，配置用于去除液体；其中所述排放装置围绕所述对象的周边的至少一部分延伸，所述排放装置包括腔室、间隙和密封件，其中所述间隙(15)布置成使得所述腔室(70)与在衬底台(WT)上方的气体环境流体连通，其中所述密封件布置成将所述间隙至所述腔室(70)的入口密封，其中所述密封件布置成由所述间隙(15)中的液体来打开。
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