[发明专利]光刻装置及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

台；

液体供给系统，配置用于向所述台上的对象与投影系统(PL)之间的空间提供液体；和

位于所述台中的排放装置，配置用于去除液体；

其中所述排放装置围绕所述对象的周边的至少一部分延伸，

所述排放装置包括腔室、间隙和密封件，

其中所述间隙(15)布置成使得所述腔室(70)与在衬底台(WT)上方的气体环境流体连通，

其中所述密封件布置成将所述间隙至所述腔室(70)的入口密封，

其中所述密封件布置成由所述间隙(15)中的液体来打开。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，包括主动型液体去除装置(180)，用于从所述腔室(70)去除液体。

3.根据权利要求2所述的光刻装置，其中所述腔室(70)通过所述主动型液体去除装置(180)保持在比周围环境气体压力低的压力。

4.根据权利要求1所述的光刻装置，包括被动型液体去除装置(180)，用于从所述腔室(70)去除液体。

5.根据权利要求4所述的光刻装置，其中所述被动型液体去除装置是毛细通道(80)。

6.根据权利要求5所述的光刻装置，其中所述毛细通道(80)与所述液体的接触角小于90°。

7.根据前述权利要求中任一项所述的光刻装置，其中所述密封件被布置成通过所述液体的液压来打开。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光刻装置，其中所述密封件被布置成通过液体的重量来打开。

9.根据前述权利要求中任一项所述的光刻装置，其中所述密封件是柔性挡板(100)。

10.根据权利要求9所述的光刻装置，其中所述柔性挡板(100)沿着所述间隙(15)的整个周边延伸。

11.根据权利要求9或10的光刻装置，其中所述挡板(100)被偏置，使得所述挡板(100)覆盖所述间隙(15)的入口。

12.根据权利要求9-11中任一项所述的光刻装置，其中所述挡板(100)在其最内边缘或最外边缘处连接至所述衬底台(WT)。

13.根据前述权利要求中任一项所述的光刻装置，其中所述对象是衬底(W)。

14.根据权利要求1-12中任一项所述的光刻装置，其中所述对象是传感器。

15.根据前述权利要求中任一项所述的光刻装置，其中所述台是保持衬底的衬底台。

16.一种光刻装置，包括：

台；

液体供给系统，配置成向所述台上的对象和投影系统(PL)之间的空间提供液体；和

在所述台中的排放装置，配置成去除液体，

所述排放装置包括腔室、间隙和网状件，

其中所述间隙(15)布置成使所述腔室(70)与所述衬底台(WT)上方的气体环境流体连通，

其中所述网状件(220)设置在至所述腔室(70)的开口中。

17.根据权利要求16所述的光刻装置，其中所述网状件(220)围绕所述间隙(15)延伸。

18.根据权利要求16或17所述的光刻装置，其中所述网状件(220)提供用于所述液体穿过的窄间隙。

19.根据权利要求16-18中任一项所述的光刻装置，其中所述网状件(220)设置在位于所述间隙(15)和所述腔室(70)之间的至所述腔室的开口中。