[发明专利]检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法

摘要

本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。

主权项

一种用于确定衬底上目标的不对称性质的检查设备，所述目标在衬底的平面内是周期性的，所述检查设备包括：照射系统，配置成提供多个波长的辐射；光学系统，包括物镜并配置成用来自第一方向和第二方向的辐射经由物镜照射所述目标，所述第一方向和第二方向相对于衬底的平面成镜像反射关系；光学装置，配置成分别地改变由所述衬底散射的辐射的衍射级的方向；一个或多个检测器，配置成在所述多个波长条件下测量被分别地改变方向的衍射级的性质；和处理器，配置成使用在所述多个波长条件下所测量的性质确定目标的不对称性质。