[发明专利]检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法

权利要求书

1.一种用于确定衬底上目标的不对称性质的检查设备，所述目标在衬底的平面内是周期性的，所述检查设备包括：

照射系统，配置成提供多个波长的辐射；

光学系统，包括物镜并配置成用来自第一方向和第二方向的辐射经由物镜照射所述目标，所述第一方向和第二方向相对于衬底的平面成镜像反射关系；

光学装置，配置成分别地改变由所述衬底散射的辐射的衍射级的方向；

一个或多个检测器，配置成在所述多个波长条件下测量被分别地改变方向的衍射级的性质；和

处理器，配置成使用在所述多个波长条件下所测量的性质确定目标的不对称性质。

2.如权利要求1所述的检查设备，其中，所述照射系统配置成提供相对于物镜的光瞳平面呈点镜像关系的两个辐射束。

3.如权利要求1或2所述的检查设备，其中，所述光学装置配置成分离通过来自第一和第二方向中的每一个方向的照射而从所述衬底散射的辐射的衍射级。

4.如权利要求3所述的检查设备，其中，所述目标在多个周期性方向上是周期性的，并且所述光学装置配置成分离在所述多个周期性方向上从所述衬底散射的辐射的衍射级。

5.如权利要求4所述的检查设备，其中，所述光学装置配置成将分离的衍射级投影到所述一个或更多个检测器，以形成由不同的分离的衍射级得出的所述目标的空间重叠的图像。

6.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述照射系统包括宽带光源。

7.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，还包括位于物镜的图像平面处的空间滤光片，配置成对从衬底的邻近所述目标的表面散射的辐射进行空间滤波，以选择被所述目标散射的辐射。

8.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述光学装置位于物镜的光瞳平面处。

9.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述光学装置包括四个楔形件，所述四个楔形件配置成分别地改变来自四个象限中每一个象限的辐射的方向。

10.如权利要求1-8中任一项所述的检查设备，其中，所述目标在多个周期性方向上是周期性的，并且所述光学装置包括多个表面，每一个表面对应沿所述多个周期性方向从所述衬底散射的辐射的相应的衍射级。

11.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述光学装置是消色差的。

12.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，还包括捕获装置，所述捕获装置配置成捕获被分别地改变方向的衍射级中的一个或更多个。

13.如权利要求12所述的检查设备，其中，所述捕获装置包括一个或更多个光纤。

14.如权利要求12或13所述的检查设备，其中，所述捕获装置配置成对从衬底散射的辐射进行空间滤波以选择被所述目标散射的辐射。

15.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所测量的性质包括在所述多个波长条件下的强度。

16.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述检测器包括分光计。

17.如前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所测量的性质包括作为波长的函数的偏振。

18.一种确定衬底上的目标的不对称性质的方法，所述目标在衬底的平面内是周期性的，所述方法包括：

提供多个波长的辐射；

用来自第一方向和第二方向的辐射、经由物镜照射所述目标，所述第一方向和第二方向相对于衬底的平面成镜像反射关系；

分别地改变由所述衬底散射的辐射的衍射级的方向；

用一个或更多个检测器在多个波长条件下测量被分别地改变方向的衍射级的性质；和

使用在多个波长条件下测量的性质确定目标的不对称性质。