[发明专利]保证膜层沉积质量的方法、膜层沉积设备的每日监控方法有效
| 申请号： | 201210024584.7 | 申请日： | 2012-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN102560405A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 赵高辉;李春雷;牟善勇;张永刚 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种保证膜层沉积质量的方法，包括每天进行对膜层沉积设备进行气密性检测的步骤；其中，所述气密性检测的步骤包括：对所述膜层沉积设备进行抽真空；抽真空结束后的给定时间段内，使所述膜层沉积设备处于气密状态，检测膜层沉积设备的气压变化状况，记录下该时间段内的气压最大值；若所述气压最大值大于预定值，则将所述膜层沉积设备归为需维修设备。本发明还提供了一种膜层沉积设备的每日监控方法，所述每日监控方法包含上述的气密性检测的步骤。与现有技术相比，本发明改善了沉积膜层的质量，提高了产品合格率，且简单易行，几乎不需增加成本。 | ||
| 搜索关键词： | 保证 沉积 质量 方法 设备 每日 监控 | ||
【主权项】：
一种保证膜层沉积质量的方法，其特征在于，包括每天进行对膜层沉积设备进行气密性检测的步骤；其中，所述气密性检测的步骤包括：对所述膜层沉积设备进行抽真空；抽真空结束后的给定时间段内，使所述膜层沉积设备处于气密状态，检测膜层沉积设备的气压变化状况，记录下该时间段内的气压最大值；若所述气压最大值大于预定值，则将所述膜层沉积设备归为需维修设备。
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