[发明专利]依托磁路技术原理的强场约束配合物晶体生长装置在审

专利信息
申请号: 201210022736.X 申请日: 2012-01-04
公开(公告)号: CN102628187A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 李榕生;俞国军;刘燕;孙杰;陈杰;周双双;孔祖萍;李文冰;张斌 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315211 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种依托磁路技术原理的强场约束配合物晶体生长装置,属于配合物晶体培育领域。现有的依托强电流支撑的电磁铁强磁系统,由于电能高消耗以及冷却剂的高消耗,而无法实际投入耗时较长的对配合物晶体生长的强磁场干预实验,本案旨在解决该问题。本案利用两块永磁体作为磁源,依托磁路原理,将两块永磁体的磁力线聚束,在磁隙结构位置形成聚焦强磁场,并以该强磁场进行配合物晶体强磁场干预生长实验。本案装置回避了所述电磁铁强磁系统的电能的高消耗以及冷却剂的高消耗,本案装置能够让相关领域的研究人员在低成本、低消耗的前提下开展时间跨度较大的强磁场对配合物晶体生长干预的研究工作。
搜索关键词: 依托 磁路 技术 原理 约束 配合 晶体生长 装置
【主权项】:
依托磁路技术原理的强场约束配合物晶体生长装置,该装置的结构包括两块永磁体,该永磁体呈板状、块状或柱状,该永磁体有两个磁极,该永磁体的两个磁极其位置分别对应于该永磁体的两个表面位置,以及,两支导磁臂,该导磁臂其构成材料是软磁性材料,该导磁臂其轮廓呈M形、W形或∑形,每一支导磁臂的位于首尾两个末端位置的两个端头分别与两块所述永磁体的极性相同的磁极贴合联接在一起,在每一支导磁臂的中部区域呈现的凸出结构其端部轮廓呈锥体状,分别来自两支所述导磁臂的所述凸出结构其锥体状端部相互邻近形成磁隙结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波大学,未经宁波大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210022736.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top