[发明专利]异物清除单元和光学设备有效
申请号: | 201210021592.6 | 申请日: | 2012-01-29 |
公开(公告)号: | CN102621690A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 浦上俊史;大桥海史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B7/00;H04N5/225 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种异物清除单元和光学设备。异物清除单元包括:光学构件,其被配置在光路中,呈矩形形状,并且设置有用于使光束通过的光学有效区域;以及压电元件,其包括压电构件以及形成在所述压电构件的表面上的驱动电极和传感器电极。所述压电元件在所述光学有效区域外部沿着所述光学构件的一个边贴着所述光学构件的表面。所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的所述光学有效区域的范围内的方式形成在所述压电构件的表面上。 | ||
搜索关键词: | 异物 清除 单元 光学 设备 | ||
【主权项】:
一种异物清除单元,包括:光学构件,其被配置在光路中,呈矩形形状,并且设置有用于使光束通过的光学有效区域;以及压电元件,其包括压电构件以及形成在所述压电构件的表面上的驱动电极和传感器电极,其中,所述压电元件在所述光学有效区域外部沿着所述光学构件的一个边贴着所述光学构件的表面,以及其中,所述传感器电极以位于所述光学构件的被所述压电元件贴着的边的方向上的所述光学有效区域的范围内的方式形成在所述压电构件的表面上。
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